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第三十九章 載流子遷移率

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週日。

許秋來到實驗室。

段雲正戴著耳機專心碼字,陳婉清則在桌位上整理著紙質文獻。

許秋先和段雲打了聲招呼,然後走到陳婉清旁邊坐下。

“學姐,PEN基底的事有訊息了嗎?”

“嗯嗯,我聯絡了幾家做光電材料的廠家,其中一家有現成的PEN基底,”陳婉清道:“不過他們只做大面積的基底,最少要買1米乘10米,我就按最小的規格買了,估計一週之內就能到。”

“大面積的基底,”許秋問道:“指的是一整張10平方米麵積的PEN基底,上面均勻鍍有ITO嗎?”

“沒錯。”陳婉清道。

“可我們用的玻璃基片上ITO是有圖案的啊。”許秋道。

“那麼就需要先將大塊的基片裁剪為一平方英寸的小片,然後再把不需要的ITO蝕刻掉,得到圖案化的ITO基底。”陳婉清道。

“好吧,我明白了,”許秋道:“那學姐有現成的蝕刻條件嗎?”

“好像沒有哦。”陳婉清歪頭想了想道。

“好像?”許秋在心裡嘀咕了一句,說道:“好吧,那我找找看。”

他掏出電腦,再次翻看那幾篇柔性襯底的文獻。

很快,他就在其中一篇文獻的實驗資訊部分,看到了他們給出的蝕刻ITO的條件:

在2摩爾每升的稀鹽酸中加入鋅粉,隨後放入ITO基片,與溶液接觸的部分將被蝕刻掉。

不過,現在PEN/ITO基片還沒有到,他只能先把這個方法記下,然後向陳婉清彙報:

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