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今天剩餘的時間，還可以再做一批器件。

不過昨天只配制了200微升的23毫克每毫升的溶液，可能會不夠用。

於是，許秋在中午飯後，又去補配了一毫升溶液。

配好溶液，他先是蝕刻了12片PEN基片，然後在基片上旋塗好PEDOT:PSS，將基片傳送入旋塗手套箱。

此時，吳菲菲正在使用手套箱，她見到許秋往傳送艙裡塞了一個培養皿，便問道：

“你打算旋塗嗎？大概要用多久。”

“半小時左右吧，我這個不需要退火的，只需要塗好然後擦片就可以了。”許秋道。

“好，那你先用吧。”吳菲菲離開手套箱。

“等一下，”她看到許秋進入手套箱，打算直接旋塗，便制止道：

“我剛塗完鈣鈦礦材料，你在做有機的器件前，最好把手套箱清洗一下。”

“清洗？”許秋疑惑道。

“這個清洗不是用水洗，而是用氮氣清洗手套箱內的氣氛，”吳菲菲解釋道：

“在旋塗過程中，溶液中的溶劑會揮發到手套箱中。

我們做鈣鈦礦用到的溶劑是主要DMF、DMSO，它們是極性溶劑，而做有機器件時用的氯仿、氯苯相對來說都是極性比較小的溶劑。

這兩類溶劑可以說是互為反溶劑的，也就是鈣鈦礦幾乎不溶於氯仿、氯苯，而有機材料也幾乎不溶於DMF、DMSO。

因此，如果手套箱記憶體在大量的極性溶劑蒸氣，將會對你做的有機器件效能造成無法預計的影響，而這種影響通常是不利的。

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