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之後的幾天，許秋又做了兩批器件，一批是重複PEN基片的，另一批是在同樣實驗條件下玻璃基片的。

PTB7-TH體系中，PEN基片的最高效率提高了一點點，達到了8.20%。

而玻璃基片下的標準樣品，最高效率可達10.26%。

這個數值，相比於他之前在模擬實驗室中得到的10.68%，稍差一些，可能是器件結構不同造成的。

PEN基片不能高溫熱退火，所以用的是PEDOT:PSS傳輸層的正常結構，而之前使用的是氧化鋅傳輸層的倒置結構。

此外，雖然重點在於PTB7-TH體系，但是許秋也做了P3HT體系。

主要是為了讓文章資料更加豐滿一些，同時也說明這種柔性襯底的加工方式具有普適性。

再之後，許秋完成了各種表徵測試，包括光吸收光譜、熒光光譜、CELIV測試等，還拍了一張用兩隻鑷子彎曲PEN基片器件的照片。

在實驗進行的間隙，許秋也在同步以論文的形式，寫專案的結題報告。

這個時候，他前期閱讀了大量的文獻的優勢就體現出來了，再加上他還可以隨時向學姐請教。

因此中文論文寫起來壓力並不大。

正文部分，許秋先將四組器件編號，PEN基片的PTB7-TH、P3HT體系，分別為1#、3#，玻璃基片對應的體系分別為2#、4#。

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